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李亚巍

副教授

物理与电子科学学院      

个人资料

  • 部门: 物理与电子科学学院
  • 毕业院校:
  • 学位: 博士
  • 学历:
  • 邮编: 200241
  • 联系电话: 021-54345123
  • 传真:
  • 电子邮箱: ywli@ee.ecnu.edu.cn
  • 办公地址: 信息楼222室
  • 通讯地址: 上海市东川路500号华东师范大学

教育经历

2006年 中国科学院上海技术物理研究所 博士

工作经历

2009年-至今 华东师范大学

个人简介

社会兼职

研究方向

欢迎物理、化学、材料、电子等专业背景本科生报考!

欢迎在校本科生加入课题组开展科创活动!



课题组网站:http://spec-lab.ecnu.edu.cn/



研究方向1——器件工艺:薄膜的物理/化学方法淀积及生长机理


研究方向2——器件物理:器件性能提升及新型器件设计



开授课程

本科生课程

《大学物理》

《半导体物理》

《智能时代的信息感知与处理》

《电子科学与技术导论》


研究生课程

《新型电子薄膜技术》

科研项目

主持项目

国家自然科学基金:原子层沉积技术制备绝缘层对MFIS结构铁电存储器性能的影响及其机理研究

上海市自然科学基金:掺杂对BiFeO3能带及电学影响

横向课题:空间分隔型气相沉积系统设计开发

横向课题:基于离子注入的高精度掺杂的基础研究



学术成果

参编专著

Y.W. Li‚ Z.G. Hu‚ and J.H. Chu‚ Electrical processes in polycrystalline BiFeO3 filmFerroelectrics - Characterization and Modeling edited by Mickael Lallart‚ Chapter 8‚ page: 135-152‚ ISBN: 978-953-307-455-9 (INTECH Open Access Publishers‚ Vienna‚ 2011).

 

专利申请及授权

李亚巍,陈栋,褚君浩,一种多孔钛酸铜钙薄膜的制备方法,专利号: 201710896396.6,授权时间:2020.8

李亚巍,乔琦,褚君浩,一种氧化铋薄膜的制备方法,专利号:201410726713.6,授权时间:2014.12

沈育德,李亚巍,褚君浩,一种针状蘑菇状Bi2O3纳米材料的制备方法,专利号:201110140208X,授权时间:2012.11

 

代表性论文

N. F. Mao, L. H. Meng, Y. W. Li*, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Enhanced Voltage Endurance Capability of Ba(Zr0.2Ti0.8)O3 Thin Films Induced by Atomic-Layer-Deposited Al2O3 Intercalations and the Application in Electrostatic Energy Storage, Ceramics International, 47, 7720 (2021).

J. Z. Li, N. F. Mao, X. Li, F. F. Li, Y. W. Li*, K. Jiang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Controllable fabrication of Bi2O3 nanoparticles by atomic layer deposition on TiO2 films and application in photodegradation, Solar Energy Materials & Solar Cells, 204, 110218 (2020).

X. Li, J. Z. Li, Q. Qiao, F. Wang, Y. W. Li*, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Electrical characteristics and carrier injection mechanisms of atomic layer deposition synthesized n-SnO2/p-Si heterojunction, Mater. Res. Express, 6, 035909 (2018).

Q. Qiao, D. Xu, Y. W. Li*, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Detection of resistive switching behavior based on the Al2O3/ZnO/Al2O3 structure with alumina buffers, Thin Solid Films, 623, 8 (2017).

Q. Qiao, Y. W. Li*, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Experimental investigations of the bismuth oxide film grown by atomic layer deposition using triphenyl bismuth, Thin Solid Films, 622, 65 (2017).

Y. W. Li*, Q. Qiao, Z. Dong, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Enhanced dielectric properties in bismuth-doped alumina films prepared by atomic layer deposition, Journal of Non-Crystalline Solids, 443, 17 (2016).

Y. W. Li*, Q. Qiao, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Influence of post-annealing on structural, electrical and optical properties of manganese oxide thin films grown by atomic layer deposition, Thin Solid Films, 574, 115 (2015).

Y. D. Shen, Y. W. Li*, W. M. Li, J. Z. Zhang, Z. G. Hu, and J. H. Chu, Growth of Bi2O3 ultrathin films by atomic layer deposition, J. Phys. Chem. C, 116, 3449 (2012).

Y. W. Li*, Y. D. Shen, F. Y. Yue, Z. G. Hu, X. M. Ma, and J.H. Chu, Preparation and characterization of BiFeO3/LaNiO3 heterostructure films grown on silicon substrate, J. Cryst. Growth, 312, 617 (2010).

Y. W. Li*‚ Z. G. Hu‚ F. Y. Yue‚ W. Z. Zhou‚ P. X. Yang‚ and J. H. Chu‚ Effects of deposition temperature and post-annealing on structure and electrical properties in (La0.5Sr0.5)CoO3 films grown on silicon substrateAppl. Phys. A95‚ 721 (2009).

Y. W. Li*‚ Y. D. Shen‚ Z. G. Hu‚ F. Y. Yue‚ and J. H. Chu‚ Effect of thickness on the dielectric property and nonlinear current-voltage behavior of CaCu3Ti4O12 thin filmsPhys. Lett. A‚ 373‚ 2389 (2009).


荣誉及奖励

科研获奖

2015年 上海市自然科学二等奖“铁电氧化物体系的电子跃迁、相变规律及光谱学探测”(排名第二)


教学获奖

2018年 华东师范大学“学生心目中最优秀教师”奖

2018年 华东师范大学本科教学年度贡献奖

2018年 “能达”奖

2017年 “申万宏源”奖

2017年 华东师范大学首届本科教学课程设计比赛 优胜奖

2016年 第二届上海高校青年教师教学竞赛 优秀奖

2016年 华东师范大学第十一届青年教师教学比赛 二等奖

2016年 华东师范大学信息科学技术学院“优秀科创指导教师”

2012年 华东师范大学第六届优秀本科生导师奖

招生信息

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